光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖

案的被覆層。

       光阻有兩種，正向光阻(posiTIve photoresist)和負向光阻(negaTIve photoresist)

       正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部份不會溶于光阻顯影液。

       負向光阻是光阻的一種，其照到光的部分不會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部份會溶于光阻顯影液。

       正型光阻劑及負型光阻劑主要是應用在LED芯片制造的金屬電極蒸鍍Lift-off制程中，由于LED電極所使用

的金屬材料不易經由蝕刻的方式制作電路圖形，所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）

光阻圖形，使金屬在蒸鍍過程中不會連續性滿布在光阻劑上，再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部份拔

起，完成金屬電極的圖案。

       半導體制程常用的正型光阻劑，在光學曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑

成像大部份圖形為上窄下寬，無法經一次曝光方式即得到Overhang的圖形，而負型光阻劑的成像恰好與正型光

阻劑圖像相反，所以負型光阻劑是lift-off制程的最佳選擇。