據路透社報道，荷蘭貿易部長Liesje Schreinemacher在給議會的一封信中宣布，計劃對半導體技術出口實施新的限制以保護國家安全，這也意味著荷蘭將加入美國遏制對華芯片出口的行列。

荷蘭將對華限制出口DUV光刻設備

自2019年以來，除了世界最先進的極紫外光（EUV）設備已禁止銷往中國，在美國協商多時的壓力下，荷蘭政府最終還是同意對目前仍賣到中國的舊款深紫外光曝光機（DUV）也設限，全球最大的光刻機制造商ASML必須先取得荷蘭政府許可才能繼續出口中國。

 

據報道，她的信中沒有提到荷蘭的主要貿易伙伴中國，也沒有提到荷蘭半導體設備主要供應商ASML，但中國和ASML都將受到影響。信中指出，其中一項將受到影響的技術是“DUV”光刻技術，這是ASML銷售給電腦芯片制造商的第二先進設備。

她解釋這次限制的理由：我們要避免荷蘭的設備被應用在軍事上，并確保我們的技術領先地位，還要降低對中國的戰略性依賴。此外，她還表示，雖與美國多次溝通，與美國同樣顧慮高端技術輸往中國，但我們是基于自己的評估而決定。并表示這些限制將在夏季之前實施。

荷蘭對外貿易部長施萊納馬赫8日接受《電訊報》專訪指出，新禁令下還是有許多更低端的設備可以銷往中國，無需取得許可，包括制造汽車、冰箱、電話和風力發電機所需芯片的設備。

至于是否擔心遭到中國報復，她表示不做推測，但強調“我們手中握有很重要的技術，中國也想要持續獲得些技術。許多較低階的深紫外光曝光機還是供應給中國。”

 ASML緊急回應

關于荷蘭政府宣布即將出臺的半導體設備出口限制的信息，ASML在官網發布了關于荷蘭增加出口管制的聲明。ASML表示，這些新的出口管制主要針對先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積和浸沒式光刻工具。

 

由于這些即將出臺的法規，ASML將需要申請出口許可證才能裝運最先進的浸沒式DUV系統。

所謂浸沒式光刻機，屬于193nm（光源）光刻機（分為干式和浸沒式），可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造，但是目前也有被業界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。

在這方面，重要的是要考慮到額外的出口管制并不適用于所有的浸入式光刻工具，而只適用于所謂的“最先進的”。雖然ASML沒有收到任何關于“最先進”的確切定義的額外信息，但ASML將其解釋為“臨界沉浸式”。ASML在我們的資本市場日中將其定義為TWINSCAN NXT:2000i和后續的沉浸式系統。

 

此外，ASML指出，主要關注成熟節點的客戶可以使用不太先進的浸入式光刻工具，這也意味著只有TWINSCAN NXT:2000i和后續系統會受到額外出口管制的影響，主要用于成熟制程的浸沒式光刻機將不會受到限制。
ASML強調，基于今天的公告、我們對荷蘭政府許可政策的預期以及目前的市場形勢，我們預計這些措施不會對我們發布的2023年財務前景或去年11月投資者日期間宣布的長期情況產生重大影響。

ASMI也將受限

需要注意的是，據computable報道，除了ASML“DUV”光刻技術將受影響外，規模較小、幾乎同名的ASM International（簡稱ASMI）也將受限。

ASMI生產用于采用原子層沉積（ALD）技術芯片的晶圓涂層設備。ASMI首席財務官Paul Verhagen表示，根據目前的估計，限制將影響的產品占中國銷售額的七分之一到四分之一，占整個集團銷售額的3%左右。

ASMI在美有龐大業務，此前有報道認為，ASMI寧肯犧牲中國的銷售。根據ASMI去年11月份的預估，美國出口管制將對該公司造成歐洲主要芯片公司里最嚴重的沖擊，影響到ASMI對中國的40%銷售，占ASMI營收達16%。ASMI CEO Benjamin Loh此前表示，中國對ASMI的業務占比不小，但還不致于置我們于死地。