據臺灣“中央社”報道，5月11日臺積電舉行2023臺灣技術論壇。

其中先進技術暨光罩工程副總經理張宗生表示，為滿足客戶需求，臺積電迅速穩定提升7nm、5nm及3nm先進制程產能，估計2019年至2023年復合成長率達40%。并指出，5nm良率改善情況比同時期的7nm好，目前3nm大量量產，良率很快可以與5nm一樣好。

張曉強指出，臺積電為車用客戶提供N3AE方案，供客戶設計使用，將有助客戶縮短產品上市時間2至3年。因應不同應用客戶需求，臺積電未來將推出N3P及N3X制程。

并表示，目前3nm制程穩定，手機、高性能運算客戶都積極推進采用3nm制程，踴躍程度超過5nm。張曉強稱臺積電3nm領先全世界，2nm于2025年量產時也會是全世界最領先的技術。

臺積電也在同步擴充特殊制程產能，張宗生稱，2019年至2023年特殊制程產能年復合成長率約10%，占成熟制程比重自2019年的54%，提升至2023年的67%。

同時臺積電也積極擴大全球生產營業廳，南科晶圓18廠將有3個廠區是3nm的生產基地，竹科的晶圓20廠去年開始建廠，預計2025年量產2nm，臺中的2nm新廠預計2024年開始建廠。

張宗生表示，美國亞利桑那州的晶圓21廠將建2座廠，第1廠預計2024年量產4nm，第2廠正建廠中。日本晶圓23廠預計2024年量產特殊制程。