5 月 17 日，美光科技公司表示，計劃在日本政府的支持下，在未來幾年內向極紫外 (EUV) 技術投資至多 5,000 億日元（37 億美元）。

最新的極紫外光刻（EUV）芯片制造機將用于制造1-gamma芯片，可用于大規模生產圖像處理網絡等復雜應用所需的材料。

 

 

并表示，美光將成為第一家將 EUV 技術引入日本進行生產的半導體公司，并補充說，預計從 2025 年起，將 EUV 投入臺灣和日本 1-gamma 節點的生產。

去年，這家美國內存芯片制造商在廣島的工廠開始大規模生產其新型高容量低功耗 1-beta 動態隨機存取內存 (DRAM) 芯片后，宣布了這一消息。DRAM芯片是斷電后失去記憶的內存芯片。

 

 

日本一直在努力重振其芯片行業，其全球市場份額已從 1980 年代末的 50% 左右降至 10% 左右，而美國則越來越多地敦促其盟友共同努力，對抗中國的芯片和先進技術發展。