6月30日荷蘭政府頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。將自9月起實(shí)施，要求相關(guān)企業(yè)在出口先進(jìn)產(chǎn)品前必須獲得許可證。

 

 

6月30日荷蘭政府頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。將自9月起實(shí)施，要求相關(guān)企業(yè)在出口先進(jìn)產(chǎn)品前必須獲得許可證。

 

據(jù)了解，這些新的出口管制條例針對(duì)對(duì)象為先進(jìn)的45nm及以下芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的ALD原子沉積設(shè)備、外延生長(zhǎng)設(shè)備、等離子體沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，以及用于使用和開(kāi)發(fā)這類先進(jìn)設(shè)備的技術(shù)、軟件。

 

根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，ASML 需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤(rùn)式 DUV 系統(tǒng)（即 TWINSCAN NXT：2000i 及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向 ASML 提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。就在荷蘭6月30日宣布一項(xiàng)新法律將限制出口先進(jìn)芯片生產(chǎn)設(shè)備之后，該公司的股票一度下跌近4%，最終當(dāng)天下跌了1.2%。

 

荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于 2023 年 9 月 1 日生效，在此日期前，ASML 可開(kāi)始提交出口許可證申請(qǐng)。荷蘭政府將視具體情況批準(zhǔn)或拒絕這些申請(qǐng)。

 

ASML表示荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及部分最新DUV型號(hào)，包括 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。EUV光刻機(jī)在此前已經(jīng)受到限制，其他系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)未受荷蘭政府管控。DUV浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，包含：TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i、NXT:1980Di 三種光刻機(jī)，這些能夠進(jìn)行38nm~45nm制程的晶圓加工。

 

此外，能夠進(jìn)行45nm以上晶圓加工，如65nm-220nm制程的干式DUV光刻機(jī)如：TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等，均不在荷蘭制裁清單內(nèi)。

 

新條例還將影響的DUV光刻系統(tǒng)如下