TMC(臺懋科技)

臺懋科技股份有限公司成立于 1988 年，是一家專注于光掩模制造及半導體相關(guān)產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的企業(yè) 。公司在光掩模制造領(lǐng)域擁有 35 年的經(jīng)驗，不斷推進技術(shù)進步和產(chǎn)能擴張，以滿足客戶日益增長的光刻需求，其目前的主要產(chǎn)品為 40nm 和 65nm 工藝的光掩模. 臺懋科技以其卓越的可靠性和強大的支持服務為基礎(chǔ)，正在新竹科學園區(qū)建設(shè)新的制造工廠，以實現(xiàn)業(yè)務的進一步拓展，這也是其長期戰(zhàn)略規(guī)劃的一部分，旨在超越光掩模領(lǐng)域，提供更廣泛的產(chǎn)品和服務. 此外，臺懋科技還是一家集設(shè)計、制造、銷售于一體的中低壓 MOSFET 服務商，其 Tritech-MOS 品牌的中低壓 MOSFET 產(chǎn)品具備高效率、高耐壓、低損耗、高速開關(guān)和高集成度等特性，而 IGBT 產(chǎn)品具備高效能轉(zhuǎn)換、高可靠性、強驅(qū)動、高耐用性等特點，LDO 系列產(chǎn)品以高電源抑制比、低噪聲、寬工作范圍、高精度特性受到市場青睞.